中國芯片自給自足問題，遲早有一天會解決，現(xiàn)在已經(jīng)看到了曙光——題記
這兩年是中國制造升級轉(zhuǎn)型極其痛苦和艱難的時期。其中關(guān)鍵就是芯片。
芯片設(shè)計并不難，我國已經(jīng)走到了世界前列。難就難在芯片制造；而光刻機是芯片從圖紙走向產(chǎn)品的最后一公里。只要這最后一公里沒有解決，我們就無法達到目的地，就像萬米長跑，哪怕前面一路遙遙領(lǐng)先，只要沒有撞線，就不能算贏，前面的努力都是徒勞，都是枉然。
不用說大陸芯片企業(yè)，包括臺積電、三星等芯片生產(chǎn)巨頭在內(nèi)，沒有光刻機，也是不行的。雖然先進光刻機生產(chǎn)不掌握在美國手里，而是在荷蘭企業(yè)ASML手里，但美國還是憑借自己掌握的極紫外光源解決方案被ASML采用，成功地阻止了ASML向我國出口光刻機。
但最近，破冰在即。據(jù)媒體報道，中芯國際與ASML簽訂合同，將花77億購買設(shè)備、零件及服務。換句話來說，這紙協(xié)議就是表示中芯國際即將擁有自己的光刻機，從而解決我國面臨的芯片生產(chǎn)的難題，以后再也不怕“卡脖子”了。
只要ASML的光刻機到位后，投入生產(chǎn)，備受關(guān)注，讓我們倍感焦慮的華為手機就可以重新起航了。這一年多，華為手機被折騰得夠嗆，本來已經(jīng)登頂世界第一了，由于芯片問題，又被急剎車，眼睜睜地看著這頂桂冠再被搶走。
當然，我們也可以想象到，ASML給中芯國際的，不可能是最先進的EUV光刻機，而應該是DUV光刻機。DUV能夠解決14nm的生產(chǎn)，不能實現(xiàn)更先進的7nm、5nm芯片的生產(chǎn)。但7nm、5nm芯片在市場上只占少數(shù)，90%以上的市場需求還是14nm的芯片。也就是說，只要ASML光刻機一來，就能解決我國芯片市場的主要需求。
更最重要的是，擁有了ASML光刻機，我們就可以既不丟市場，不影響企業(yè)生產(chǎn)，又贏得了寶貴的時間，進行先進光刻機的研發(fā)。當然，要徹底解決芯片不被“卡脖子”的情況，還是要求我們擁有自主研發(fā)的先進光刻機。這是個難題，但相信中國人民的智慧是無窮的，最終解決先進光刻機只是一個時間問題。實踐已經(jīng)證明，再高端再先進再困難的技術(shù)，只要給中國科研工作者時間，我們就能克服一切困難，實現(xiàn)自主研發(fā)。
攻克國產(chǎn)光刻機核心技術(shù)方面，我國也是捷報頻傳。上海微電子的28nm光刻機今年已經(jīng)成功交付。最近，清華大學宣布在光刻機核心技術(shù)的光源技術(shù)上實現(xiàn)了新突破，找到了了功率更大，穩(wěn)定性更強的SSMB光源，這種高功率、高重頻、窄帶寬的相干輻射，波長可覆蓋從太赫茲到極紫外（EUV）波段，一旦被應用到光刻機上，將比美國、德國的極紫外光源更加優(yōu)越。而南大光電自主研發(fā)的ArF（193nm）光刻膠可用于7nm芯片制造材料，打破了日本企業(yè)的壟斷。
在2025年要實現(xiàn)芯片自給自足70%的目標面前，雖然道路是曲折的，但前途是光明的。我們有充分理由相信，中國一定行！
2021年3月10日 北京西城
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